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CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室(φ500×H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統,旋轉加熱基片臺,氣路系統,電氣控制及報警保護系統等組成。
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PS-200單靶磁控濺射鍍膜機
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