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CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室（φ500×H430mm），永磁圓形平面靶，真空系統，旋轉加熱基片臺，氣路系統，電氣控制及報警保護系統等組成。
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PS-200單靶磁控濺射鍍膜機
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真空封焊爐
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ALD原子層沉積設備
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