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VTM單晶爐

       VTM單晶爐是依據我公司自主研發的VTM工藝方法所設計的新型單晶工藝設備, 設備由加熱系統、運動系統支撐機構、電控系統四部分組成,適用碲鋅鎘、碲化鎘、銻化鎵等多種化合物半導材料的單晶生長。

 

VTM單晶爐設備特點

· 晶體生長界面引入磁力控制,穩定晶體生長方向,提高了單晶成品率;
· 整機的機械運動及加熱系統采用PC控制,菜單數據可輸入,歷史數據可查詢,具有聲、光報警,生產重復性高;
· 加熱系統分主加熱裝置和輔助加熱裝置。主加熱控制整體溫度。輔助加熱可移動。實現局部加熱的高精度,加強了溫場的可控性;
· 運動系統采用一鍵式控制。既滿足裝爐時的快速升降,又可以精確控制晶體生長時爐體的緩慢行程速度,大大提高生產效率;
· 支撐機構采用分體式設計,保障穩定性同時有效阻隔了震動,提高單晶生長的質量及成品率;
· 采用剛性傳動機構,傳動效率高,穩定性強。

 

技術參數

適用爐體范圍 2~6英寸
爐體結構 立式單管狀
控制方式 微控
爐體極限工作溫度 1350℃
溫度顯示精度 0.1℃
溫度控制精度 優于±0.2
爐體動作模式 立式升降/左右旋轉
爐體升降行程 L有效=620mm
VTM單晶爐
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