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低溫立式爐

       低溫立式爐主主要應用于:半導體高精度低溫熱處理工藝。針對于熱處理中溫度低且精度高的工藝環節。

技術參數

工藝溫度范圍 100--300℃
恒溫區長度 250mm(可定制)
恒溫區內單點溫度穩定性 ±0.5
恒溫區內單點溫度重復性 ±0.5
升溫時間 20min
低溫
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